光学镀膜设备特点:
射频偏压样品台
膜厚监测仪
极限真空5x10-7Torr
高精度及高重复性
高品质膜层
原子级的洁净表面
原子级清洗和抛光
通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
自动上下载片
两个腔体之间自动传送
菜单驱动,4级密码访问保护
完整的安全联锁
占地面积46”D x 44”W
光学镀膜设备应用
光学涂层
溅射
离子束辅助沉积
离子束刻蚀清洗
离子束辅助反应刻蚀
红外涂层
表面处理
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